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詳情介紹
JS-1600小型離子濺射儀采用成熟穩定的二極（DC）直流濺射原理設計，以簡潔操作、可靠性能與靈活適配性，成為掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備、非導體材料實驗電極制作的理想配套設備。儀器兼顧實驗室桌面使用需求與大樣品處理能力，從基礎科研到常規檢測場景均可穩定勝任，為高質量導電鍍膜與薄膜沉積提供標準化解決方案。
核心設計與應用優勢
該設備以直流二極濺射為核心工作機制，在真空環境下通過電場加速離子轟擊靶材，使金屬原子均勻沉積于樣品表面，形成致密、連續、導電性能優異的薄膜。整機操作流程簡化，無需復雜調試，用戶可根據實驗要求自主設定真空條件與濺射電流，快速獲得穩定可重復的鍍膜效果。大尺寸真空腔體是該設備的突出亮點，有效突破常規小型設備的樣品尺寸限制，滿足大樣品濺射需求，大幅提升實驗通量與適用范圍。設備標配一片99.999% 超高純金靶，從源頭保障膜層純度與成膜質量，為 SEM 成像、電極制備等關鍵環節提供高品質基礎條件。
關鍵技術指標
靶材（上部電極）：標配高純金靶，直徑 50mm、厚度 0.1mm，純度達 99.999%，成膜均勻性與導電性優異。
真空室：直徑 160mm、高度 120mm，大腔體設計兼容大尺寸與多數量樣品處理。
樣品臺（下部電極）：面積直徑 50mm，適合大樣品的濺射。
工作真空：8×10?2—2×10?1 mbar，適配空氣 / 氬氣兩種工作介質，靈活滿足不同實驗需求。
離子電流：標配 50mA 離子電流表，濺射電流清晰直觀。
數顯計時：支持自定義單次濺射時間，操作直觀、過程可控。
工作電壓：-1600VDC，保障穩定直流濺射電場。
真空系統：配置VRD-4飛越真空泵，抽速快、建壓穩、噪音低。
氣路控制：配備氬氣專用進氣口與微量充氣調節閥，支持 φ4×2.5mm 軟管連接。
外形尺寸：360mm×300mm×380mm，桌面式緊湊布局，節省實驗室空間。
擴展適配與實用價值
除標配金靶外，還可兼容金、鉑、銀、氧化鋅等多種靶材，為用戶提供更多材料選擇與功能擴展空間。JS-1600小型離子濺射儀以穩定的直流濺射、友好的操作界面、可靠的真空系統與大腔體兼容設計，全面覆蓋材料科學、物理、化學、電子、生物等領域的 SEM 樣品導電處理、非導體電極制備、表面改性等應用。整機結構堅固、維護簡便、運行穩定，是科研院所、高校實驗室、企業質檢與研發部門提升制樣效率、保障檢測精度的高效工具。
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